光電子濕法工藝(主要包括濕法刻蝕、濕法清洗)制程中使用的各種電子化工材料，是集成電路工藝制程中的關鍵性基礎化工材料。

不同線寬的集成電路制程工藝中必須使用不同規格的超凈高純試劑進行蝕刻和清洗，其關鍵生產技術包括混配技術、分離技術、純化技術以及與其生產相配套的分析檢驗技術、環境處理與監測技術等、包裝技術等。

在半導體濕化學品供應商方面，市場份額主要掌握在歐美、日本、韓國等國家的企業手中，高端產品市場依賴進口。
 

在半導體濕化學品供應商方面，市場份額主要掌握在歐美、日本、韓國等國家的企業手中，包括德國巴斯夫，美國亞什蘭化學、Arch 化學，日本關東化學、三菱化學、京都化工、住友化學、和光純藥工業，臺灣鑫林科技，韓國東友精細化工等，上述公司占全球市場份額的85%以上。

濕電子化學品領域與國外尚有較大差距，高端市場主要集中在美、日、歐等少數大廠商手中，比如在對電子化學品純度等級要求較高的半導體和平板顯示領域，我國內資企業市場占有率僅達到